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參考價(jià)	面議

原價(jià)	￥1500
參考價(jià)	￥1000	￥900	￥800
訂貨量	1-2000臺(tái)	2000-4000臺(tái)	4000-6000臺(tái)

產(chǎn)品分類(lèi)品牌分類(lèi)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)地類(lèi)別	進(jìn)口	價(jià)格區(qū)間	面議
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,能源,電子

日立高新磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極，能夠大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

詳細(xì)介紹

日立高新磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極，能夠大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的大樣品直徑：60 mm
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的大樣品高度：20 mm

日立高新磁控濺射器MC1000特點(diǎn)：
采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

規(guī)格：

項(xiàng)目		說(shuō)明
放電	類(lèi)型	磁控二極管放電型（電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng)）
	電極組成	反向平行盤(pán)（嵌入磁鐵）
	電壓	大0.4Kv DC（直流可變）
	電流	大40mA DC
噴鍍速率(大）[條件] 壓力：7Pa 放電電流:40mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20mm	Pt靶(選配件)	15nm/min
	Pt-Pd靶（選配件）	20nm/min
	Au靶(選配件)	35nm/min
	Au-Pd靶（選配件）	25nm/min
樣品尺寸	大直徑	Ф60mm
樣品尺寸	大高度	20mm
機(jī)械泵		135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡²		Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
電源要求		單相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-針插頭線(xiàn)纜(3m)
尺寸	寬度	450mm
	長(zhǎng)度	391mm
	高度	390mm
重量	主機(jī):約25Kg 機(jī)械泵:約28kg
﹡¹：噴鍍速率僅供參考 ﹡²：主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇（鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)

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日立高新磁控濺射器MC1000

DIKMA/迪馬科技

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上海市

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