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Plasmalab 133牛津儀器 RIE 半導(dǎo)體刻蝕機PX 3846
SPB5/plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機PX 4143
WINETCHCCP等離子刻蝕機PX 2250
森泰克刻蝕機Etchlab 200PX 1802
Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機PlasmaPro 80PX 3029
PLASMA大氣常壓等離子處理機器PX 1954
RIE-300NRRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1800
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機PX 2819
FPSEM-icp200e電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 4068
PICO德國Diener等離子清洗機PX 3030
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源PX 1926
VP-RS15等離子刻蝕機PX 2640
離子污染測定儀PX 1830
ICP等離子刻蝕機PX 2250
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機SI 500PX 1802
Wintech ICP-200微蕓電感耦合等離子體刻蝕機PX 0
Wintech CCP-200微蕓電容耦合等離子體刻蝕機PX 0
customized-12反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1800
RIE-200CRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1800
Ionfab 300 IBE離子束刻蝕系統(tǒng)IBEPX 1800
customized-14深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCHPX 1800
RIE-800iP等離子體刻蝕設(shè)備PX 1800
RIE-10NRRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1800
RIE-230iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1800
RIE-400iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1800
RIE-800iPC等離子體刻蝕設(shè)備PX 1800
NE-5700/NE-7800刻蝕設(shè)備PX 1800
ULHITETM NE-7800H高密度等離子刻蝕裝置PX 1800
NLD-570NLD干法刻蝕設(shè)備PX 1800
APIOS NE-950EX干法刻蝕設(shè)備PX 1800
NLD-5700干法刻蝕裝置PX 1800
EIS-200ERP離子束刻蝕機PX 1800
EIS-1500離子束刻蝕機PX 1800
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)PX 1800
PlasmaPro 100 Cobra ICP電感耦合等離子體刻蝕PX 1800
KS-S300-E單片濕法刻蝕機PX 1800
customized多腔等離子體工藝系統(tǒng)PX 1800
customized多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)PX 1800
SENTECH 集群系統(tǒng)等離子刻蝕集群系統(tǒng)PX 1800
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 1800
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
森泰克刻蝕機Etchlab 200
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機SI 500
等離子刻蝕集群系統(tǒng)
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
等離子刻蝕系統(tǒng)RIE
RIE等離子蝕刻系統(tǒng)
低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)
單晶圓刻蝕系統(tǒng)
大氣常壓等離子處理機器
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
等離子刻蝕機
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上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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