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當前位置:上海富瞻環(huán)??萍加邢薰?/a>>>半導體行業(yè)儀器>> J200 iXiX飛秒激光剝蝕系統(tǒng)
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號J200 iX
品 牌美國Applied Spectra
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
更新時間:2024-11-09 12:57:37瀏覽次數(shù):75次
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簡介
J200 iX飛秒激光剝蝕系統(tǒng)是一款高性能的臺式激光剝蝕設備,適用于高精度同位素及元素比測量。其核心部件為飛秒摻鐿激光器,波長1030nm/343nm,脈沖寬度不超過500飛秒,光斑尺寸可在5-70微米范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。配備雙體積樣品池、冷凍樣品池、移動平臺及光學成像系統(tǒng),并支持激光誘導擊穿光譜儀功能升級。該系統(tǒng)包含操作軟件和數(shù)據(jù)處理軟件,集成于工控機中,確保高效、精準的分析能力。
其它參數(shù)
脈沖寬度:500fs
J200 iX飛秒激光剝蝕系統(tǒng)
1 臺式飛秒激光剝蝕系統(tǒng),直接放置在工作臺面上,使用該設備可以進行高精度同位素和元素比測量進樣。
2 激光源:飛秒摻鐿(Yb-KGW)泵浦激光器,脈沖頻率不低于1Hz-1 KHz可調(diào),激光波長1030nm/343nm, 脈沖寬度:≤500 fsec, 光斑尺寸:可調(diào)整光斑尺寸范圍不小于5-70μm。
3 樣品室:雙體積樣品池,冷凍樣品池等
4 移動平臺
5 光學成像。
6 氣路單元
7 激光誘導擊穿光譜儀(LIBS)功能升級選項
8 操作軟件和數(shù)據(jù)處理軟件。
9 工控機
Photon Machines團隊(縮寫PMI)的激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線為全球之一,其第一代產(chǎn)品于1995年問世,該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設計、研發(fā)、制造及應用經(jīng)驗,產(chǎn)品線涉及213nm固態(tài)激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統(tǒng)(與ICP-MS聯(lián)用),及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)(與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用),此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強并完善系統(tǒng)的功能,足以為全球元素分析用戶提供先進的激光剝蝕技術。
Analyte Excite 準分子激光剝蝕系統(tǒng)采用精細化控制單元,高能量的“平頂 (homogenized-flat)"激光和飛速響應的“邊對邊 (shot-to-shot)"技術帶來高分辨率空間分析能力。創(chuàng)新的“動態(tài)剝蝕功能 (fire-on-the-fly)"采用高分辨率XY移動平臺技術,同時移動平臺能夠?qū)崟r觸發(fā)激光的發(fā)射,應用于線掃描的深度剝蝕和元素分布圖的分析。另外,高分辨率GigE真彩顯微攝像觀察技術,觀察單元光學分辨率小于2μm,提供透射、反射和環(huán)形可調(diào)亮度的照明和十字交叉偏振系統(tǒng),能夠?qū)崟r顯示實時縮放的動態(tài)寬視野場,實現(xiàn)快速樣品定位導航。
結(jié)合超短脈沖(<4ns)的193nm氣態(tài)準分子激光剝蝕系統(tǒng),Analyte Excite具有高性價比及更廣泛的高效剝蝕應用范圍。從不透明到高透明樣品,單次剝蝕深度能夠達到10 納米以上,同時光束能量均勻化分布,以確保在整個光斑尺寸范圍內(nèi)和各種材料上均勻剝蝕。與寬脈沖(20+ns)的193nm激光系統(tǒng)相比,Analyte Excite能夠產(chǎn)生更高的“峰功率",更加易于剝蝕樣品,產(chǎn)生更細粒徑的氣溶膠,能夠得到更小的剝蝕分餾效應,促使ICP分析信號更加平穩(wěn)。
超短193nm激光波長
超短脈沖寬度<4ns
足夠剝蝕各類樣品的能量密度,可達15J/cm2
密閉氣室
激光束能量分布均勻化,剝蝕均勻
標配100x100mm移動平臺
同步“動態(tài)剝蝕功能"實現(xiàn)精確的剝蝕深度控制
獨立的視頻和激光光學控制單元,能夠更好的查看樣品剝蝕點
剝蝕光斑范圍1-155μm
標配32個剝蝕光斑,光斑可定制
兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
支持升級為Analyte Excite+系統(tǒng),配置更多高能配件,剝蝕光斑范圍1-245μm
環(huán)境樣品分析,物證樣品分析,地質(zhì)樣品分析,同位素定性分析,元素分布圖繪制分析, 流體包裹體分析,深度剝蝕分析,地質(zhì)年代測定,古溫度測定
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